Pelapisan Chromium

Pada pelapisan Chromium untuk industri,
Chromium langsung diendapkan tanpa pelapis perantara
yang biasanya dilakukan melalui Larutan Pendahulu
(strike solutions), sedangkan pada pelapisan dekoratif,
Chromium merupakan lapisan teratas setelah lapisan
pendahuluan yang umumnya Copper-Nikel.
Larutan untuk pelapisan Chromium terutama
terdiri dari Asam Chromic (CrO3) ditambahkan
sejumlah kecil anion dari senyawa sulfat atau Fluoride
compleks, dimana senyawa utama didalam larutan
adalah Asam Chromic (CrO3) yang diencerkan dalam
larutan kental H2CrO4 dan beberapa asam lain. Namun
untuk dapat diendapkan dari air, di dalam larutan
tersebut harus ada zat tambahan yang berfungsi sebagai
katalis yang memungkinkan terjadinya pengendapan
logam Chromium pada katoda, zat tambahan tersebut
umumnya adalah Sulfat dan Flourida dalam bentuk
Fluosilikat atau Silicofluorida (SiF6).
Perbandingan antara CrO3 terhadap katalis
yang umumnya Sulfat memiliki arti penting bagi hasil
yang didapatkan, oleh karena itu ratio antara CrO3
terhadap Sulfat harus dibuat optimal dalan rangka
mendapatkan cakupan arus yang merata dan menyeluruh
(good coverage). Kedua larutan memiliki kelemahan
dan kelebihan masing-masing dimana larutan encer
lebih rendah biaya, efifiensi katoda lebih baik.
Sedangkan untuk larutan yang pekat memerlukan
tegangan arus yang lebih rendah, tidak sensitif terhadap
kontaminasi dan cakupan arus lebih baik. Adapun
temperatur operasi keduanya antara 32oC hingga 50oC
dengan rapat arus sebesar 1430 A/m2, pada tegangan
arus 4 sampai 12 Volt.
Dalam proses elektroplating ini reaksi yang terjadi pada
katoda adalah :
1. Pengendapan Khrom :
Cr2O7
– + 14 H+ + 12e – 2Cr + 7H2O
2. Pelepasan gas Hidrogen :
2H+ + e – H2
3. Pembentukan Cr ( III ) :
Cr2O7
– + 14H+ + 6e – 2Cr3+ + 7H2O
Sedangkan pada anoda terjadi reaksi :
1. Pelepasan gas Hidrogen :
2H2O O2 + 4H+ + 4e –
2. Oksidasi ion Chromat :
2Cr 3+ + 6 H2O 2CrO3 + 12H+ + 6e –
3. Produksi timbal oksida :
Pb + 2H2O PbO2 + 4H+ + 4e –

Subscribe to receive free email updates: